在半導體光刻這一極其精密且對環境要求苛刻的工藝環節中，利潔凈防靜電丁腈手套發揮著至關重要的作用，主要體現在以下幾個方面：

1. 靜電防護：半導體光刻過程中，硅片、光刻掩膜版等都是靜電敏感器件。防靜電丁腈手套能將人體產生的靜電迅速導走，避免靜電積累。因為靜電放電產生的瞬間高電壓可能會擊穿半導體器件的微小電路結構，導致芯片功能失效。例如，在搬運和放置硅片時，手套可有效防止因人體靜電對硅片表面的電路造成損害，確保光刻后芯片的性能和良品率。

2. 防止顆粒污染：光刻工藝對環境潔凈度要求極高，哪怕微小的顆粒污染物落在硅片表面，都可能在光刻過程中形成瑕疵，影響芯片的性能和質量。防靜電丁腈手套不易產生靜電吸附灰塵和顆粒，且本身材質較為潔凈，在操作過程中不會輕易脫落纖維等雜質。當操作人員用手套接觸硅片、光刻設備部件時，能最大程度減少外界顆粒污染物的引入，維持光刻環境的高潔凈度。

3. 化學防護：光刻過程中會使用到多種化學試劑，如光刻膠、顯影液、蝕刻液等。這些化學試劑具有較強的腐蝕性或毒性，防靜電丁腈手套具有良好的化學耐受性，能夠有效阻擋化學試劑與皮膚接觸，保護操作人員的安全。同時，手套的化學防護性能也能防止化學試劑對手套的損壞，避免因手套破損而影響操作或導致化學試劑泄漏，從而保障光刻工藝的正常進行。

4. 操作靈活性和精確性：半導體光刻需要進行高精度的操作，如精確對準光刻掩膜版和硅片、使用微細工具進行微調等。防靜電丁腈手套貼合手部，具有良好的彈性和靈活性，能讓操作人員靈活地控制手部動作，實現精細操作。手套的良好觸感也有助于操作人員更好地感知操作力度和位置，確保光刻過程中各項操作的準確性和一致性，提高光刻工藝的質量和效率。 5. **維持工藝穩定性**：在半導體制造的大規模生產線上，保持工藝的穩定性和一致性是提高生產效率和產品質量的關鍵。防靜電丁腈手套的使用可以減少因靜電、污染等因素導致的工藝波動和產品缺陷，使光刻工藝能夠在穩定的條件下進行，有助于提高整個半導體制造流程的穩定性和可靠性。